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    Semiconductor Science And Technology

    Semiconductor Science And TechnologySCIE

    國際簡稱:SEMICOND SCI TECH  參考譯名:半導體科技

    • 中科院分區

      4區

    • CiteScore分區

      Q2

    • JCR分區

      Q3

    基本信息:
    ISSN:0268-1242
    E-ISSN:1361-6641
    是否OA:未開放
    是否預警:否
    TOP期刊:否
    出版信息:
    出版地區:ENGLAND
    出版商:IOP Publishing Ltd.
    出版語言:English
    出版周期:Monthly
    出版年份:1986
    研究方向:工程技術-材料科學:綜合
    評價信息:
    影響因子:1.9
    H-index:99
    CiteScore指數:4.3
    SJR指數:0.411
    SNIP指數:0.741
    發文數據:
    Gold OA文章占比:10.23%
    研究類文章占比:95.85%
    年發文量:193
    自引率:0.0526...
    開源占比:0.0715
    出版撤稿占比:0
    出版國人文章占比:0.19
    OA被引用占比:0.0493...
    英文簡介 期刊介紹 CiteScore數據 中科院SCI分區 JCR分區 發文數據 常見問題

    英文簡介Semiconductor Science And Technology期刊介紹

    Devoted to semiconductor research, Semiconductor Science and Technology's multidisciplinary approach reflects the far-reaching nature of this topic.

    The scope of the journal covers fundamental and applied experimental and theoretical studies of the properties of non-organic, organic and oxide semiconductors, their interfaces and devices, including:

    fundamental properties

    materials and nanostructures

    devices and applications

    fabrication and processing

    new analytical techniques

    simulation

    emerging fields:

    materials and devices for quantum technologies

    hybrid structures and devices

    2D and topological materials

    metamaterials

    semiconductors for energy

    flexible electronics.

    期刊簡介Semiconductor Science And Technology期刊介紹

    《Semiconductor Science And Technology》自1986出版以來,是一本工程技術優秀雜志。致力于發表原創科學研究結果,并為工程技術各個領域的原創研究提供一個展示平臺,以促進工程技術領域的的進步。該刊鼓勵先進的、清晰的闡述,從廣泛的視角提供當前感興趣的研究主題的新見解,或審查多年來某個重要領域的所有重要發展。該期刊特色在于及時報道工程技術領域的最新進展和新發現新突破等。該刊近一年未被列入預警期刊名單,目前已被權威數據庫SCIE收錄,得到了廣泛的認可。

    該期刊投稿重要關注點:

    Cite Score數據(2024年最新版)Semiconductor Science And Technology Cite Score數據

    • CiteScore:4.3
    • SJR:0.411
    • SNIP:0.741
    學科類別 分區 排名 百分位
    大類:Engineering 小類:Electrical and Electronic Engineering Q2 305 / 797

    61%

    大類:Engineering 小類:Condensed Matter Physics Q2 167 / 434

    61%

    大類:Engineering 小類:Materials Chemistry Q2 137 / 317

    56%

    大類:Engineering 小類:Electronic, Optical and Magnetic Materials Q2 126 / 284

    55%

    CiteScore 是由Elsevier(愛思唯爾)推出的另一種評價期刊影響力的文獻計量指標。反映出一家期刊近期發表論文的年篇均引用次數。CiteScore以Scopus數據庫中收集的引文為基礎,針對的是前四年發表的論文的引文。CiteScore的意義在于,它可以為學術界提供一種新的、更全面、更客觀地評價期刊影響力的方法,而不僅僅是通過影響因子(IF)這一單一指標來評價。

    歷年Cite Score趨勢圖

    中科院SCI分區Semiconductor Science And Technology 中科院分區

    中科院 2023年12月升級版 綜述期刊:否 Top期刊:否
    大類學科 分區 小類學科 分區
    工程技術 4區 ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC 工程:電子與電氣 MATERIALS SCIENCE, MULTIDISCIPLINARY 材料科學:綜合 PHYSICS, CONDENSED MATTER 物理:凝聚態物理 4區 4區 4區

    中科院分區表 是以客觀數據為基礎,運用科學計量學方法對國際、國內學術期刊依據影響力進行等級劃分的期刊評價標準。它為我國科研、教育機構的管理人員、科研工作者提供了一份評價國際學術期刊影響力的參考數據,得到了全國各地高校、科研機構的廣泛認可。

    中科院分區表 將所有期刊按照一定指標劃分為1區、2區、3區、4區四個層次,類似于“優、良、及格”等。最開始,這個分區只是為了方便圖書管理及圖書情報領域的研究和期刊評估。之后中科院分區逐步發展成為了一種評價學術期刊質量的重要工具。

    歷年中科院分區趨勢圖

    JCR分區Semiconductor Science And Technology JCR分區

    2023-2024 年最新版
    按JIF指標學科分區 收錄子集 分區 排名 百分位
    學科:ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC SCIE Q3 211 / 352

    40.2%

    學科:MATERIALS SCIENCE, MULTIDISCIPLINARY SCIE Q3 301 / 438

    31.4%

    學科:PHYSICS, CONDENSED MATTER SCIE Q3 50 / 79

    37.3%

    按JCI指標學科分區 收錄子集 分區 排名 百分位
    學科:ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC SCIE Q3 238 / 354

    32.91%

    學科:MATERIALS SCIENCE, MULTIDISCIPLINARY SCIE Q3 293 / 438

    33.22%

    學科:PHYSICS, CONDENSED MATTER SCIE Q3 51 / 79

    36.08%

    JCR分區的優勢在于它可以幫助讀者對學術文獻質量進行評估。不同學科的文章引用量可能存在較大的差異,此時單獨依靠影響因子(IF)評價期刊的質量可能是存在一定問題的。因此,JCR將期刊按照學科門類和影響因子分為不同的分區,這樣讀者可以根據自己的研究領域和需求選擇合適的期刊。

    歷年影響因子趨勢圖

    發文數據

    2023-2024 年國家/地區發文量統計
    • 國家/地區數量
    • CHINA MAINLAND257
    • USA139
    • India121
    • GERMANY (FED REP GER)95
    • South Korea90
    • England64
    • Japan64
    • France55
    • Russia52
    • Taiwan31

    本刊中國學者近年發表論文

    • 1、Sub-band gap infrared absorption in Si implanted with Mg

      Author: Wang, Mao; Shaikh, M. S.; Kentsch, U.; Heller, R.; Zhou, Shengqiang

      Journal: SEMICONDUCTOR SCIENCE AND TECHNOLOGY. 2023; Vol. 38, Issue 1, pp. -. DOI: 10.1088/1361-6641/aca3ca

    • 2、Emission and capture characteristics of electron trap (E-emi=0.8 eV) in Si-doped beta-Ga2O3 epilayer

      Author: Qu, Haolan; Chen, Jiaxiang; Zhang, Yu; Sui, Jin; Gu, Yitian; Deng, Yuxin; Su, Danni; Zhang, Ruohan; Lu, Xing; Zou, Xinbo

      Journal: SEMICONDUCTOR SCIENCE AND TECHNOLOGY. 2023; Vol. 38, Issue 1, pp. -. DOI: 10.1088/1361-6641/aca045

    • 3、Straightforward synthesis and mechanism insight of TiO2/a'-AgVO3 heterostructure with enhanced photocatalytic activity

      Author: Liu, Yangbin; Liu, Nian; Lin, Minghua; Zhou, Yun; Ouyang, Xiaoping

      Journal: SEMICONDUCTOR SCIENCE AND TECHNOLOGY. 2023; Vol. 38, Issue 1, pp. -. DOI: 10.1088/1361-6641/aca625

    • 4、The interplay of process parameters and influence on the AlN films on sapphire fabricated by DC magnetron sputtering and annealing

      Author: Liu, Huan; Guo, Wei

      Journal: SEMICONDUCTOR SCIENCE AND TECHNOLOGY. 2023; Vol. 38, Issue 1, pp. -. DOI: 10.1088/1361-6641/aca8ca

    • 5、Low-temperature in situ deposited CuI-based hole-transporter for perovskite solar cells efficiency enhancement

      Author: Li, Hang; Fu, Chao; Shi, Lei; Li, Chaorong; Pan, Jiaqi; Zhang, Wenjun

      Journal: SEMICONDUCTOR SCIENCE AND TECHNOLOGY. 2023; Vol. 38, Issue 1, pp. -. DOI: 10.1088/1361-6641/aca3c9

    • 6、Design of the GaN based CAVET with SiO2-InGaN hybrid current blocking layer

      Author: Li, Haiou; Kang, Dongxu; Qu, Kangchun; Liu, Xingpeng; Wan, Rongqiao

      Journal: SEMICONDUCTOR SCIENCE AND TECHNOLOGY. 2023; Vol. 38, Issue 1, pp. -. DOI: 10.1088/1361-6641/aca626

    • 7、In-situ deposition of tungsten oxide hole-contact by Hot-Wire CVD and its application in dopant-free heterojunction solar cells

      Author: Guo, Cong; Li, Junjun; Liu, Run; Zhang, Dongdong; Qiu, Junyang; Zhuang, Zihan; Chen, Yang; Qiu, Qingqing; Liu, Wenzhu; Huang, Yuelong; Yu, Jian; Chen, Tao

      Journal: SEMICONDUCTOR SCIENCE AND TECHNOLOGY. 2023; Vol. 38, Issue 1, pp. -. DOI: 10.1088/1361-6641/aca5ac

    • 8、Investigation of thermal stability and crystallization mechanism of Er-0.03(GeTe)(0.97) phase change material

      Author: Gu, Han; Wu, Weihua; Xu, Shengqing; Zhou, Xiaochen; Shen, Bo; Zhai, Jiwei

      Journal: SEMICONDUCTOR SCIENCE AND TECHNOLOGY. 2023; Vol. 38, Issue 1, pp. -. DOI: 10.1088/1361-6641/aca520

    投稿常見問題

    通訊方式:IOP PUBLISHING LTD, DIRAC HOUSE, TEMPLE BACK, BRISTOL, ENGLAND, BS1 6BE。

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