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    微細加工技術雜志

    微細加工技術雜志統計源期刊

    Microfabrication Technology

    主管單位:信息產業部 主辦單位:中國電子科技集團公司第48研究所

    • 審稿周期

      3-6個月

    • 總被引次數

      758

    • H指數

      14

    • 期刊他引率

      1

    基本信息:
    ISSN:1003-8213
    CN:43-1140/TN
    主編:伍三忠
    郵編:410111
    出版信息:
    出版地區:湖南
    出版周期:雙月刊
    出版語言:中文
    創刊時間:1983
    類別:電子
    收錄信息:
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    榮譽信息:
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    期刊介紹 歷史收錄 投稿須知 文獻分析 發文分析 期刊文獻 常見問題

    微細加工技術期刊介紹

    《微細加工技術》是由中國電子科技集團公司第48研究所主辦,信息產業部主管的全國性電子類期刊,創刊于1983年,刊號(CN 43-1140/TN,ISSN 1003-8213),雙月刊。該雜志以刊登電子科學論文、評價電子科研成果、探討電子教學規律、傳播電子教學經驗、開展電子學術討論、報道電子研究動態、提供國內外電子信息為主旨,引領電子前沿和熱難點問題研究,助電子經學者成長。該刊級別為統計源期刊,歡迎廣大讀者訂閱。

    《微細加工技術》期刊欄目主要有:綜述 電子束技術 離子束技術 光子束技術 薄膜技術 微機械加工技術 納米技術

    微細加工技術歷史收錄情況

    • Scopus數據庫(2021)

    微細加工技術投稿須知

    (1)題目:應反映文章主要內容,一般不用副標題,不超過20個漢字,避免使用非公知的外文縮寫。

    (2)本刊將對一稿兩投者表示公開譴責,通知作者單位,并2年內拒絕該文第一作者的任何來稿。

    (3)來稿一經采用,因人力所限一般不退稿,請作者自留底稿,文稿署名自便,但來稿請注明作者真實姓名、單位、職稱、通訊地址、郵政編碼及電話,以便聯系。

    (4)注釋時,必須將其作者姓名、文獻名、出版社、出版時間、所屬頁碼一并注出。

    (5)參考文獻:作者年份制,正文中以(作者,年份)形式置于對應處;詳細內容采用文后注形式,中文在前、英文在后,以音序排序,具體著錄格式見附件。

    微細加工技術文獻分析

    1、主要引證文獻期刊分析

    序號 期刊 涉及文獻量
    1 《微納電子技術》 61
    2 《光學精密工程》 50
    3 《材料導報》 36
    4 《電子工業專用設備》 36
    5 《納米技術與精密工程》 32
    6 《半導體技術》 27
    7 《功能材料與器件學報》 25
    8 《傳感技術學報》 24
    9 《壓電與聲光》 24
    10 《中國機械工程》 23

    2、主要參考文獻期刊分析

    序號 期刊 涉及文獻量
    1 《半導體學報:英文版》 35
    2 《中國機械工程》 27
    3 《光學精密工程》 26
    4 《物理學報》 26
    5 《光電工程》 25
    6 《微納電子技術》 18
    7 《機械工程學報》 16
    8 《光學學報》 16
    9 《電子工業專用設備》 16
    10 《傳感器技術》 14

    微細加工技術主要發文機構分析

    序號 機構名稱 發文量 相關發文主題
    1 中國科學院 192 光刻;電子束曝光;曝光機;電子束曝光機;掩模
    2 上海交通大學 129 微機電系統;電系統;機電系統;MEMS;刻蝕
    3 清華大學 60 微細;光刻;微細加工;離子束;聚焦離子束
    4 中國科學技術大學 47 刻蝕;離子束;離子束刻蝕;光刻;衍射
    5 電子工業部 46 離子注入;注入機;離子注入機;半導體;電路
    6 中國科學院微電子研究所 38 光刻;掩模;X射線光刻;電子束曝光;分辨率
    7 中國科學院長春光學精密機械與物理研究所 34 光柵;MEMS;刻蝕;光刻;傳感
    8 山東大學 29 電子束;電子束曝光;曝光機;電子束光刻;電子束曝光機
    9 山東工業大學 28 電子束曝光;曝光機;電子束曝光機;電子束;電路
    10 華中理工大學 26 刻蝕;濺射;半導體;等離子體;離子束

    微細加工技術期刊文獻

    • 基于MEMS的無閥泵研究進展 作者:白蘭; 馮志慶; 吳一輝;大連民族學院; 大連; 116600; 大連民族學院; 大連; 116600; 中國科學院長春光學精密機械與物理研究所; 長春130033
    • 電感耦合等離子體源的研究進展 作者:楊定宇; 蔣孟衡;成都信息工程學院光電技術系; 成都; 610225; 成都信息工程學院光電技術系; 成都; 610225
    • 光刻結合熱解制備高深寬比碳微結構的新方法 作者:湯自榮; 姚園媛; 史鐵林; 廖廣蘭;華中科技大學; 機械科學與工程學院; 武漢; 430074; 武漢光電國家試驗室; 武漢; 430074; 華中科技大學; 機械科學與工程學院; 武漢; 430074; 武漢光電國家試驗室; 武漢; 430074; 華中科技大學; 機械科學與工程學院; 武漢; 430074; 武漢光電國家試驗室; 武漢; 430074; 華中科技大學; 機械科學與工程學院; 武漢; 430074; 武漢光電國家試驗室; 武漢; 430074
    • 基于光刻版的無留膜紫外納米壓印技術研究 作者:張亞軍; 丁玉成; 盧秉恒;西安交通大學; 機械制造系統工程國家重點實驗室; 西安; 710049; 西安交通大學; 機械制造系統工程國家重點實驗室; 西安; 710049; 西安交通大學; 機械制造系統工程國家重點實驗室; 西安; 710049
    • 接近式光刻的角譜法仿真研究 作者:李曉光; 沈連; 鄭津津; 李木軍; 陳有梅;中國科學技術大學; 機密機械與精密儀器系; 合肥; 230027; 中國科學技術大學; 機密機械與精密儀器系; 合肥; 230027; 中國科學技術大學; 機密機械與精密儀器系; 合肥; 230027; 中國科學技術大學; 機密機械與精密儀器系; 合肥; 230027; 中國科學技術大學; 機密機械與精密儀器系; 合肥; 230027
    • 評價任意面型微光學元件制作誤差的方法 作者:高洪濤; 杜春雷; 張雨東;中國科學院光電技術研究所微細加工光學技術國家重點實驗室; 成都610209; 中國科學院研究生院; 北京; 100039; 中國科學院光電技術研究所微細加工光學技術國家重點實驗室; 成都610209; 中國科學院光電技術研究所; 成都; 610209
    • 自動微分法求解粒子光學像差的精度分析 作者:李文萍; 顧文琪;中國科學院電工研究所; 北京; 100080; 中國科學院研究生院; 北京; 100039; 中國科學院電工研究所; 北京; 100080
    • 超磁致伸縮薄膜性能測試系統研究 作者:何濱; 章良; 宋祖殷;湖南建筑高級技工學校機電系; 長沙; 410015; 空軍駐湖南軍代室; 長沙; 410016; 空軍駐湖南軍代室; 長沙; 410016

    投稿常見問題

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